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设备
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设备
场发射环境透射电镜
场发射环境透射电镜 &nb
2011-10-28
场发射环境扫描电子显微镜
场发射环境扫描电镜(Environmental Scanning Electron Microscopy)ESEM 设备简介 Quanta FEG系列场发射环境扫描电子显微镜是FEI公司的最新产品之一。是在FEI公司著名产品XL30 ESEM-FEG场发射环境扫描电子显微镜的基础上发展而来的。 Quanta FEG场发射环境扫描电子
2011-10-28
X射线衍射仪
X射线衍射仪 简介: D8 ADVANCE衍射仪为当前最先进的XRD系统。能够精确地对金属和非金属多晶粉末样品进行物相检索分析、物相定量分析、宏观应力、织构分析,薄膜分析及微区测量分析等 主要参数: 最大输出功率:3 kW 扫描方式:q/q测角仪 可读最小步长:0.0001° 角度重现性:0.0001° 林克斯半导体阵列探
2011-10-28
动态热机械分析仪
动态热机械分析仪(DMA) 设备简介 动态热机械分析仪(DMA)是在程序温度控制下测量样品在承受动态负荷时(如正弦应力)模量和力学阻尼随温度和频率变化的仪器。目前DMA广泛应用于复合材料和高分子材料的动态力学性能研究中。 DMA能测量样品的动态模量(储存模量、损耗模量和复合模量)和阻尼因子,从而在聚合物的固化、交联、结晶、玻璃化转变、热稳定性能、聚
2011-10-28
10KN电液伺服疲劳试验机
设备简介 高刚度机架设计,手动或液压调整横梁位置,精密导向的作动缸及配合智能化试验软件testXpert II保证测试结果完整和精确。控制系统集成度高、结构紧凑、超高测量精度和试验的智能化控制是其主要特点。 设备技术参数 机架额定载荷为5- 10 Kn 动作缸行程为100-250 mm。
2011-10-28
230J仪器化落锤冲击试验机
设备简介 &n
2011-10-28
MEⅡ-5040 CNC模具雕刻机
MEⅡ-5040 CNC模具雕刻机 Woodpecker CNC Mould milling engraving machine 设备简介 2008最新的新型模具雕刻机。操作面板一目了然,操作简单。机身选用刚性良好的双立柱龙门式结构,进口滚珠丝杆副及矩形直接导轨副,进口全数字交流伺服电机驱动。满足模具加工所需要的刚性和精度的要求。Z
2011-10-28
意大利BABYPLAST微型注塑机
意大利BABYPLAST微型注塑机 设备简介 Babyplast是世界微型注塑机制造的先驱者,专注于微型注塑机的研究制造已近二十年,其微型注塑的丰富经验来自于在医疗-电子通讯-微型机构等生产领域的上万种应用,和多年的对热塑性材料-陶瓷-金属等微型注塑的实验和研究. Babyplast适合所有热塑性的成型,特别对于重量为0.
2011-10-28
磁控钨极电弧炉
磁控钨极电弧炉 设备简介 该设备主要用于去除金属中有害气体和杂质,改善材料纯度,提高熔炼金属和合金的性能。在磁场作用下,实现透底熔炼及搅拌均匀,可熔炼出成份均匀的金属及合金,还可供浇铸合金铸锭。适用于各种金属和难熔金属及合金熔炼。系统主要由电弧熔炼真空室、电弧枪、电弧熔炼电源、五工位水冷铜坩埚、翻转机械手、真空吸铸装置、磁力搅拌、工作
2011-10-28
等离子体化学气相沉积及磁控溅射系统
等离子体化学气相沉积及磁控溅射系统 Plasma enhanced chemical vapor deposition and magnetron sputtering system 设备简介 本设备为等离子体化学气相沉积与磁控溅射系统连体设备,两个腔体共用一套真空系统。等离子体化学气相沉积主要用于半导体行业生产所须的Si3N4,SiO2
2011-10-28
磁控溅射沉积系统
磁控溅射沉积系统 Magnetron Sputtering Deposition System 设备简介 该设备为双室多靶磁控溅射镀膜设备,主要用于磁控溅射的方法制备金属膜,半导体膜,陶瓷膜,介质复合膜及多层膜和其它化学反应膜及掺杂膜等。 设备性能指标 *
2011-10-28
高温石墨化炉
高温石墨化炉(High Temperature Furnace for graphitization) 设备简介 应用碳素材料的烧结,石墨化,碳纤维绳的烧结,碳纤维灯丝的烧结石墨化及其它可在碳环境下烧结和熔炼的材料。成套设备包括一台立式炉和一台卧式连续式炉。 设备性能指标 * 最高使
2011-10-28
WHD-30型多功能双极性微弧氧化电源及设备
WHD-30型多功能双极性微弧氧化电源及设备 设备简介 本设备是在引进俄罗斯微弧氧化技术创始人--马尔可夫专家的(新西伯利亚科学院)先进技术的基础上,吸取国内外电源新技术,尤其在电源的抗干扰、控制、安全防护等技术,并结合国际上金属表面材料处理的技术要求,而设计制造的微弧氧化电源系统。该电源设备具有结构简单、技术先进、功能完善、环保无污染、
2011-10-28
凝胶色谱图仪
凝胶色谱图仪 设备简介 主要用于用于高分子材料中分子量测定。200 HPLC型凝胶色谱仪,该设备的重现性优秀,仪器稳定性很好,能够进行长时间的连续测试,分析高聚物材料分子量分布情况分析。 主要技术参数及功能 * 电压:220VAC±10% * 室温:15~30℃ * 相对湿度:20%~80% *&
2011-10-28
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